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鈀膜的制作方法是什么?

  鈀膜通常指管狀或芯片金屬鈀或鈀合金。結構分為兩類。一個是自支撐型,另一個是負載型(也稱為復合膜)。稠密的鈀膜可以得到氫滲透。因此,鈀膜的研究對氫提純具有重要意義,鈀合金膜擴散法具有獨特的純化性能,不能與其他物理或化學方法相比,是氫同位素提取、分離和純化的主要過程。

  鈀膜的原理是,將在300-500下純化的氫氣通過鈀管的一側時,氫氣會吸附在鈀管壁上。由于鈀的4d電子層缺乏兩個電子,可以產生氫和不穩定的化學鍵(鈀和氫的這種反應是可逆的),由于鈀的作用,氫不能通過钚表面未分解的氣體,因此可以利用钚管來獲得高純度。鎢對氫有獨特的通過性能,但純鎢的機械性能不好,容易在高溫下氧化,再結晶溫度低,容易使鎢管變形和脆,因此不能將純鎢用作過濾膜。將適量的IB族和元素制成鈀合金,提高鈀的機械性能。

  鈀膜的制作方法是什么?

  制備鈀膜的方法可分為傳統軋輥、物理氣相沉積、化學氣相沉積、電鍍或電鑄、無電子電鍍。

  滾軋法適用于大規模生產金屬箔,高溫熔化的原料鑄造毛坯,經過高溫均勻化、冷、熱端壓,反復冷軋和退火,直到達到所需厚度。

  物理氣相沉積(PVD)過程中沉積的固體物質首先在小于1.3MPa的真空系統中用物理方法氣化,然后凝結成比較冷的載體,沉積成薄膜。

  化學氣相沉積(CVD)過程是氣相中包含的金屬復合物在一定溫度下分解生成金屬,沉積在載體上形成薄膜的過程。

  在電鍍法中,載體是鍍液中的金屬,用陰極覆蓋。無電子電鍍(也稱為化學鍍)的原理是亞穩定金屬鹽復合物可以在目標表面控制的自催化分解或還原反應,通常使用氨復合物,如Pd(NH3)4(NO2)2、Pd(NH3)4Br2或PD  (NH3) 4C  10[1]

  鈀膜的主要用途是什么?

  磁性支撐型钚膜管或膜厚度為15-100微米,材料一般為鎢銀或銅合金。主要用于氫分離,也可用于氫同位素分離和氫同位素分離。磁性支撐型鎢膜的缺點是強度下降,滲透率低,成本高。為了解決這個問題,人們在多孔氣體中沉積鎢膜,形成裝載型鎢膜(又稱復合膜或復合膜)。


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